M5111-13/UM型低壓氧化退火爐設備
關鍵詞：
泛半導體高端工藝裝備制造商、智能制造和整線集成解決方案提供商
M5111-13/UM型低壓氧化退火爐設備
- 硅片尺寸可兼容至230mm;
- 采用優質的控溫方式，確保工藝區溫度的均勻性與穩定性;
- 爐體具備極冷極熱性能，產能及工藝效果更優；
- 法蘭密封系統，采用雙層水冷密封結構，氣密性好，密封圈使用壽命更長；
- 具備現有PERC工藝能力，兼容TOPCON升級空間。
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工藝種類 |
氧化、退火 |
恒溫區長度 |
≤±0.5℃/2200MM(800℃ - 1100℃) |
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可選管數 |
5管/臺、6管/臺、10管/臺、12管/臺 |
≤±1℃/2200MM(600℃ - 799℃) |
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石英管內徑 |
≥420MM |
溫度速率 |
最大升溫速率為20℃/MIN |
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典型裝片量 |
182硅片：2640片/管、2200片/管（順氣流） |
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182硅片：1600片/管（常規方形） |
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溫度控制范圍 |
600℃ - 1100℃ |
工作壓力 |
50-1000mBar（環閉控制） |
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