RSP-8000型平板式PVD設(shè)備（含自動化）

PVD又稱物理氣相沉積，用于高效異質(zhì)結(jié)（HJT)太陽電池硅片的正反面濺鍍 ITO透明電薄膜。業(yè)內(nèi)最大跨度的量產(chǎn)型磁控濺射設(shè)備，可在一次工藝過程實(shí)現(xiàn)正反面的鍍膜。自動上下料系統(tǒng)具備上料自動外觀（破片、缺口、崩邊）檢測及下料PL檢測功能，產(chǎn)能達(dá)，穩(wěn)定性好。

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泛半導(dǎo)體高端工藝裝備制造商、智能制造和整線集成解決方案提供商

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RSP-8000型平板式PVD設(shè)備（含自動化）

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RSD-100型原子層沉積設(shè)備

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RSC-6000型異質(zhì)結(jié)PECVD設(shè)備（含自動化）

設(shè)備采用射頻等離子體增加化學(xué)氣相沉積技術(shù)，在制絨清洗后的硅片表面，沉積5-10NM非晶硅鈍化層。非晶硅鈍化層包括本征非晶硅層（I層）、摻雜非晶硅層（P層）和摻雜非晶硅層（N層），且具備切換成甚高頻電源進(jìn)行摻雜微晶硅層（P層）和參雜微晶硅層（N層）的沉積；配備等離子清洗系統(tǒng)，可在腔內(nèi)實(shí)現(xiàn)腔體和板框的自動清洗功能，維護(hù)保養(yǎng)方便；自動上下料系統(tǒng)具備上料自動外觀（破片、缺口、崩邊）檢測及下料PL檢測功能，整機(jī)良率及穩(wěn)定性好。

RSP-100型掃描式磁控濺射設(shè)備

PVD又稱物理氣相沉積，RSP-100為多靶水平磁控濺射系統(tǒng)，專為實(shí)驗(yàn)室工藝研發(fā)、材料開發(fā)等功能開發(fā)的一款多功能實(shí)驗(yàn)性平臺，可滿足自動往復(fù)多次鍍膜的要求。

RSD-100型原子層沉積設(shè)備

本設(shè)備可為單腔原子層積沉系統(tǒng)，專為實(shí)驗(yàn)室工藝研發(fā)、材料開發(fā)等功能開發(fā)的一款多功能實(shí)驗(yàn)性平臺，可針對性實(shí)現(xiàn)鈣鈦礦太陽能電池（PSCS)電子傳輸層薄膜（TIO2、SNO2等）的制備。

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