RSP-100型掃描式磁控濺射設(shè)備
PVD又稱物理氣相沉積，RSP-100為多靶水平磁控濺射系統(tǒng)，專為實驗室工藝研發(fā)、材料開發(fā)等功能開發(fā)的一款多功能實驗性平臺，可滿足自動往復(fù)多次鍍膜的要求。
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泛半導(dǎo)體高端工藝裝備制造商、智能制造和整線集成解決方案提供商
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PVD又稱物理氣相沉積，RSP-100為多靶水平磁控濺射系統(tǒng)，專為實驗室工藝研發(fā)、材料開發(fā)等功能開發(fā)的一款多功能實驗性平臺，可滿足自動往復(fù)多次鍍膜的要求。
本設(shè)備可為單腔原子層積沉系統(tǒng)，專為實驗室工藝研發(fā)、材料開發(fā)等功能開發(fā)的一款多功能實驗性平臺，可針對性實現(xiàn)鈣鈦礦太陽能電池（PSCS)電子傳輸層薄膜（TIO2、SNO2等）的制備。
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